TA-SHG pro
High-power, tunable, frequency-doubled diode laser
- 共振周波数の第二高調波発生(SHG)
- 豊富な波長ラインナップ: 330 .. 780 nm, 線幅 < 500 kHz
- AutoAlign & FiberMon オプションをご用意
- PowerLock 出力パワー安定化オプション
- PowerLockを可能にする DLC pro デジタルコントローラ
TA-SHG pro システムは波長可変半導体レーザー、高出力半導体アンプ (TA)、SHG発生ステージを組み合わせた画期的な製品です。ファイバーアンプ (FA) またはラマンアンプ (RFA)との組み合わせもラインナップしています。SHG発生ステージにはボウタイ型リング共振器を採用し熱的また機械的に高い安定性を持っています。またオプションとしてTAチップ、SHGキャビティ、ファイバ結合器の各光入力部へのアライメントを全自動で行うAutoAlign機能、出力パワー安定化オプションをご用意しています。各種の分光、レーザー冷却、光データストレージ、ホログラフィ、光干渉計測など様々なアプリケーションに高出力ソリューションをご提案します。
詳しい製品情報は以下のビデオをご覧ください：
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Specification
対応可能な波長レンジ * 330 .. 680 nm (半導体増幅器)
510 .. 780 nm (ファイバー増幅器)シードレーザー DL pro, DL 100/pro design, DL DFB 増幅器種別 半導体増幅器 (TA pro), ファイバー増幅器 (FA) または ラマンファイバー増幅器 (RFA) 第二高調波発生 SHG pro 波長粗調整レンジ 2 .. 20 nm - Additional Information
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Options
- AutoAlign: SHGキャビティおよび出力ファイバへの光結合を全自動で行うオプションです(FiberMonオプションが必要です)
- FiberMon: ファイバ出力後のパワーを計測し最適化するオプションです
- EOM/SHG pro: エラー信号発生のためのEO変調器 (レーザーの電流変調の代替に利用可能です)
- FiberDock プローブビーム信号のファイバ出力
- FiberDock SHG信号のファイバ出力
- •シードレーザーのための追加レギュレータモジュール: DLC ext + DigiLock 110 or PDH/DLC pro + DLC ext + FALC 110, PID 110
- TA-FHG pro: 高出力モデルへのアップグレード
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Applications
- 原子光学: レーザー冷却 & トラッピング
- ボーズアインシュタイン凝縮 & フェルミ縮退気体
- イオンレーザー冷却 & トラッピング
- 量子情報
- 度量衡計測 (周波数, 加速度, 回転, 物理基本定数)
- 分光 (原子, 分子, 量子ドット, trace NV centers)
- 光励起 & EIT
- リュードベリ励起
- レーザー磁界測定
- LIDARセンシング
- 光干渉計測 & ホログラフィ
- Downloads
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Literature
- 技術記事:Ulrich Eismann Direct and frequency-converted diode lasers provide all wavelengths for holography, Laser Focus World (2018), German version, Chinese version, Japanese version, French version
- 技術記事: Active and passive stabilization of a high-power UV frequency-doubled diode laser, CLEO, OSA Technical Digest (Optical Society of America, 2016)
- 技術記事: Short, shorter, shortest: Diode lasers in the deep ultraviolet, Laser Focus World, June 2016
- 技術記事: Kurz, kürzer, am kürzesten, Best of (2015)
- 技術記事: More colors! Diode lasers reach Yellow and Orange, Physics' Best (2013)
- 技術記事: Frequenzkonvertierte cw-Lasersysteme für Forschung und Industrie, Physik Journal (2007)
- 技術記事: R. Kirner et al., Mask-aligner lithography using a continuous-wave diode laser frequency-quadrupled to 193 nm, Optics Express (2018)
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