TopWave 405
優れた費用対効果。ガスレーザーの置き換えに – リソグラフィー、ホログラフィーアプリケーション向けにハンズフリーオペレーションを提供します
- New: up to 2 Watt @ 405 nm
- 低コストでの運用可能
- 優れたビーム品質、 M² = 1.15(典型値)
- コヒーレンス長 > 100 m
NEW: TopWave XP 405 — 405 nmで2 Wの高出力レーザー。 要求の厳しいリソグラフィおよびホログラフィ用途向けにTopWaveシリーズを拡充。実績あるTopWave 405の性能を基盤とし、XPバージョンは出力を2倍に高めながらも、卓越したビーム品質とコヒーレンス特性を維持します。
TopWave 405シリーズはリソグラフィーやホログラフィー用途で従来一般的に使用される、サイズ及び消費電力の大きいKr+ クリプトンイオンガスレーザー（406.7 nmおよび413.1 nm）の理想的な代替となるレーザーシステムです。TopWave 405 は405nmで 1 W の出力と優れたビーム品質を実現しています。 ビーム径と M² (typ. 1.15) は、既存のガスレーザーパラメータに適合するよう設計されているため、光学系に大幅な変更を加えることなく容易に統合が可能です。 またコヒーレンス長が100m以上と非常に長いため干渉 lithography や holographyにおいて安定したパターン生成が可能になりました。
Highest Efficiency – low cost of ownership
ガスレーザーは数キロワットの消費電力とハンドリングが煩雑な水冷チラーを必要としますが、“オール半導体レーザー” 方式を採用した TopWave 405 は200W未満の低消費電力で水冷チラーも必要ありません。運用コストを大幅に低減し、オーナシップコストの改善に大きく寄与します。 さらに長寿命の半導体レーザーの採用でメンテナンス周期が長くなり、改修コストを劇的に低減できるメリットもあります。
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Specification
TopWave 405 TopWave XP 405 Wavelength (air) 405 ± 0.5 nm Linewidth (@ 5 us) < 1 MHz Coherence length > 100 m Output Power 1000 mW 2000 mW Output Power Adjustability 70 - 100 % 10 - 100 % Beam Diameter 1.5 ± 0.2 mm Beam Waist location Front bezel ± 25% of Rayleigh range m Beam Divergence (full-angle) < 0.6 mrad Ellipticity 0.9 - 1.1 Astigmatismus ± 0.25 zR Beam Pointing Stability (1) ≤ 5 µrad - Applications
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Literature
技術記事: Ulrich Eismann Direct and frequency-converted diode lasers provide all wavelengths for holography, Laser Focus World (2018), Japanese version
アプリケーションノート: Resource-efficient generation of large-area micro and nanostructures, Photonics Views, February / March 2023
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