TopWave 405

NEW:  TopWave XP 405 — 405 nmで2 Wの高出力レーザー。 要求の厳しいリソグラフィおよびホログラフィ用途向けにTopWaveシリーズを拡充。実績あるTopWave 405の性能を基盤とし、XPバージョンは出力を2倍に高めながらも、卓越したビーム品質とコヒーレンス特性を維持します。

TopWave 405シリーズはリソグラフィーやホログラフィー用途で従来一般的に使用される、サイズ及び消費電力の大きいKr+ クリプトンイオンガスレーザー（406.7 nmおよび413.1 nm）の理想的な代替となるレーザーシステムです。TopWave 405 は405nmで 1 W の出力と優れたビーム品質を実現しています。 ビーム径と M² (typ. 1.15) は、既存のガスレーザーパラメータに適合するよう設計されているため、光学系に大幅な変更を加えることなく容易に統合が可能です。  またコヒーレンス長が100m以上と非常に長いため干渉 lithography や holographyにおいて安定したパターン生成が可能になりました。

Highest Efficiency – low cost of ownership

ガスレーザーは数キロワットの消費電力とハンドリングが煩雑な水冷チラーを必要としますが、“オール半導体レーザー” 方式を採用した TopWave 405 は200W未満の低消費電力で水冷チラーも必要ありません。運用コストを大幅に低減し、オーナシップコストの改善に大きく寄与します。 さらに長寿命の半導体レーザーの採用でメンテナンス周期が長くなり、改修コストを劇的に低減できるメリットもあります。