213 nm 10 mW cw
213 nm CW 半導体レーザーシステム
- 213 nm において10 mW の単一周波数出力
- 短時間での発振線幅 < 1 MHz, コヒーレンス長 > 150 m
- パッシブ周波数安定性: < 400 MHz/K
- MHzレベルのアクティブ周波数安定化オプションをご用意
- 低いランニングコスト
理化学向け波長可変半導体レーザーシステム DLC TA-FHG pro は科学研究実験またはラボ環境(例えばクリーンルーム)を有する産業用測定アプリケーションに最適化されたレーザーです。一定時間ごとのメンテナンスが必要ですが24時間/7日に近いレベルでの運用も可能です。 DLC TA-FHG pro は当社で独自に開発された特許取得済のメタルブロック構造をレーザーヘッド部に採用し、パッシブな状態でも極めて優れた安定性を実現しました。
レーザーのコントロール制御部は完全にデジタル化されPCからのリモート制御が可能です。また最新のPowerLock機能と AutoAlign機能を搭載しています。マニュアル操作でのnmレベルの波長粗調整および数10GHzレベルでの波長微調整、また低ドリフトの波長固定発振が可能です。さらなる安定性を希望される際には1MHz以下の安定性を可能にするアクティブ周波数安定化オプションをご用意しています(周波数安定性は用いるリファレンスに依存します)。波長モードホップの発生は極力低減され、またデイリーでの調整作業を行うことにより、より最適化された状態で使用することが可能です。
製品の詳細につきましては こちらから お気軽にお問合せ下さい。
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Literature
- 技術記事: R. Kirner et al., Mask-aligner lithography using a continuous-wave diode laser frequency-quadrupled to 193 nm, Optics Express (2018)
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