Holo-Litho 405

性价比高,气体激光的代替–适用于全息术、干涉术、光刻术等领域的简易、无干涉、远程操作

  • 1瓦@ 405纳米

  • 光束质量:M²= 1.15(典型值)

  • 高相干性:> 100 m相干长度(<1 MHz线宽)

  • 最高的壁挂效率

  • 不干涉操作和按钮式用户界面

Holo-Litho 405是全息照相和平版印刷应用中常用的老式,耗电的Kr +气体激光器(406.7 nm和413.1 nm)的理想替代品。 气体激光器需要几千瓦的电功率和繁琐的水冷却,而“全半导体” Holo-Litho 405的所需功率却小于0.08 kW,并且不需要水冷即可产生类似的光输出功率。仅此一项就可以大大降低拥有成本。 此外,用户还可以受益于更长的服务间隔和更低的翻新成本。 受过培训的人员可以轻松地对半导体可更换部件进行现场更换,从而减少了停机时间并提高了盈利能力。

该系统包括一个全自动的,按钮优化的光力学,以及稳定的输出功率。 这使得Holo Litho 405可以在全息,干涉测量和光刻等通常很敏感的环境中,轻松地进行远程操作

  • DLC TA SHG pro