TopWave 405

高安定性。405nm単一周波数レーザー

リソグラフィとホログラフィの未来を切り拓く次世代レーザー。

TopWave 405

高安定性。405nm単一周波数レーザー

TopWave 405シリーズはリソグラフィおよびホログラフィ用途で現在も広く使用されている大型かつ高消費電力のクリプトンイオンガスレーザー（406.7 nmおよび413.1 nm）を置き換える、現代的で「グリーン」な代替光源として設計されました。405 nmにおいて最大2 W、100 mを大きく超えるコヒーレンス長、M²＝1.15（典型値）を実現しワンプッシュ操作により高出力と高精度そして優れた操作性を両立します。数千時間にわたる試験により検証された産業向け堅牢なデザインは、24時間365日運用に必要な安定性能と長期信頼性、最大稼働率を提供します。”オール半導体レーザー”設計のため消費電力は200 W未満、水冷も不要です。これにより所有コストを低減し環境負荷も最小化します。

Your Benefits

405 nmで実現する唯一無二のパワー。

「オール半導体レーザー構造」で405 nmにおいて最大2 Wの光出力。

高いコヒ―レンシー。

単一周波数動作でコヒーレンス長は100 mをはるかに超え干渉パターン生成に最適です。

高信頼性。

405 nmで安定した24時間365日運用を実現する、堅牢な産業用レーザー設計。

オーナシップコストを最小に。

従来のガスレーザーよりはるかに高い電力効率を実現し水冷も不要です。

クリプトンイオンレーザーから置き換えよう。

即時置換を前提にガスレーザーの仕様に合わせて設計されておりシステムへの組み込みが容易です。

コンパクト。もう準備完了です。

設置の手間を最小限に抑えたコンパクトなターンキー型レーザーシステム

Applications

ホログラフィー・拡張現実（AR）

ホログラフィーは、かつては芸術的な好奇心の対象にすぎませんでしたが、いまや次世代光学システムを支える中核技術へと進化しています。AR（拡張現実）ディスプレイや自動車照明から、精密計測、データストレージ、光学的セキュリティに至るまで、現代のホログラフィーは、エンジニアやデザイナーが光をこれまでにない精度で形成・制御・操作することを可能にしています。

干渉リソグラフィ

干渉露光によるマイクロ／ナノ構造形成では高いコヒーレンス・低い周波数ドリフト・優れたビーム品質が重要です。
ワット級のレーザー出力により、大面積基板を最高品質で加工でき露光時間も大幅に短縮できます。

レーザーマスク描画

物理的なレチクルを使用せず集束レーザービームで直接精密なパターンを書き込む、コスト効率の高いリソグラフィプロセスです。半導体マスク製造において高精度かつ柔軟な加工を可能にします。既存のiラインフォトレジストの特性を活かすため、波長はおよそ400 nmが用いられます。405 nmのレーザーを使用することで最小線幅500 nm、CD（クリティカル寸法）均一性15 nm未満を達成できます。

マスクレスリソグラフィー・レーザーダイレクトライティング

最新のマイクロリソグラフィーシステムでは、かさばるガスレーザーや HeCd レーザーに代わり、コンパクトなバイオレットおよび UV ダイオードレーザーが主流となっています。ダイオードレーザーの優れた性能により、稼働率の向上、所有コストの低減、そして従来の常識を覆すような高品質な描画特性が実現しました。