テラヘルツ光源

Advantages of optoelectronic systems

  • 光電子的な発生方法:広い発振帯域、高速性
  • テラヘルツ分光計測また非破壊検査に最適
  • パルステラヘルツ: 高速測定、広範な発振スペクトル
  • CW テラヘルツ: 高精度周波数チューニング、超高分解能

分光的に興味深い0.1〜6 THzの周波数帯は簡単にはアクセスできません。周波数逓倍器を備えた電圧制御発振器のような電子源は数100GHzまでの周波数領域において高出力レベル(mWレンジ)を提供することが可能ですがサブミリ波領域での発振効率は非効率的になります。量子カスケードレーザーのような直接発振型光源は極低温で動作した時でさえも通常2THz以上の発振周波数に制限されます。

光電子テラヘルツ発生法は近赤外レーザー光が金属 - 半導体 - 金属からなる微細構造を照射しテラヘルツ波の発生源となる光電流を発生させる間接的な発振手法です。パルス発振と連続波(cw)発振技術の両方が実現されておりどちらにも特徴的な技術的優位点があります。パルステラヘルツ放射は広い帯域幅(通常0.1〜5 THz)の発振が可能で非常に高速な測定を可能にします 。発振スペクトルの情報はミリ秒以内に取得することができます。一方で周波数分解能は数GHzに制限されます。逆にCWシステムはやや低い帯域幅(0.1〜6 THz)を特徴としより長い測定時間を必要とします。 スペクトル情報の取得には数分間が必要な一方で周波数分解能は比類のない精度で制御することが可能です(数MHzまでの設定が可能です)。

トプティカ社では時間領域(パルス)周波数領域(CW)の両方のテラヘルツアプリケーション用のコンポーネント類と完全なシステムソリューションを提供しています。

  • Time-domain terahertz platform TeraFlash

トプティカ社のテラヘルツ製品ラインナップ