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椭偏测量

薄膜测量以及光学性能检测

光学器件,半导体以及光学数据储存生产商都十分关注同一个问题:如何控制薄膜或涂层的厚度?相关测量必须快速,无损伤,最重要的是需要十分精确。鉴于以上要求,基于激光的方法是首当其冲。

椭偏仪可以在光从样品表面反射或通过样品投射后测得偏振的变化。测量结果取决于介质的光学特性以及厚度。因此,虽然该方法源于薄膜厚度测量,但它也常用于表征成分,结晶度,粗糙度,掺杂浓度等能影响样品光学反馈的物质特性。由于椭偏测量是通过分析两个测量量的比率实现的,它的精度和可重复性很强。由于该测量提供相位信息,它的灵敏度也很高。对于许多样品,椭偏测量法可测量单层薄膜,甚至是更薄。

毋庸置疑,精度如此高的测量技术首先依赖于极其稳定的光源。TOPTICA的工业级单模半导体激光器提供最高功率及最大的指向稳定性,这两个特性对该工艺都是至关重要的。TOPTICA提供波长范围覆盖紫外到红外全波段的工业激光解决方案,我们将竭诚为您高精尖的应用方案提供支持。