微光刻

利用半导体激光器改善微光刻

摩尔定律非常准确地预测,不断向更小结构努力是微光刻最明确的目标。在现代微光刻系统中,紧凑型紫色以及紫外半导体激光已经取代了体积庞大的气体激光(HeCd激光等)。半导体激光的卓越性能使得正常运行时间大大得到提高,并在提高刻写质量的同时降低拥有成本,而这些都是在最近才得以实现。TOPTICA很自豪可以提高最先进的半导体激光器以满足直接掩模刻写等领域的高要求。

与气体激光相比,半导体激光器的优势是多方面的:气体激光通常在连续模式下工作,脉冲模式的产生需要通过外部调制来进行。半导体激光则可实现高频脉冲操作。通过对脉冲宽度的调制,可实现不同层次的成像,即所谓的灰度。

蓝光气体激光的典型运行时间是几千小时。紫色半导体激光的寿命超过该水平两至三倍,从而延长系统的正常运行时间。此外,TOPTICA提供最优化的单模半导体激光 ,专为满足最严格要求而设计。