光刻光学器件检测

利用193 nm 及 248 nm激光进行透镜检测

  • 利用相干连续激光检测光刻光学器件
  • 可用波长为193 或 248 nm (准分子激光波长)
  • 为获得最高的空间分辨率,最优选择是最先进的二极管激光器
  • TOPTICA的频率稳定以及频率转换激光器是理想的工具

光刻是一种对薄膜或基板进行部分图案化的常用微加工技术。若使用紫外波场进行刻写,它也通常被称为光学光刻或紫外光刻。

该技术利用光将掩模的几何图案转移到基板上的光敏化学材料(“光致抗蚀剂”或“抗蚀剂”)中。在经过第一步辐照之后则是一系列化学处理流程,通过这些流程得以将曝光图案刻蚀入抗蚀剂下方材料中,或使其能够允许按所需图案沉积新材料。 

例如,为了生产复杂的集成电路芯片,一片先进的CMOS晶片甚至需经过50次上述光刻周期。在光刻系统中,通常使用深紫外准分子激光器,如波长为248nm的氟化氪激光或波长为193nm的氟化氩激光。

光刻设备的光学透镜系统通常非常复杂,并由各种透镜组合而成,以求实现最高的空间分辨率。这些透镜在生产过程中需通过相干连续激光进行检测,这些激光的波长需与准分子激光对应波长相同,亦即 193nm 或 248nm。由于准分子激光是非相干激光器(鉴于他们的空间分辨率),需要利用其他激光来进行检测,亦即频率稳定频率转换半导体激光